首款12-inch PECVD Dubhe- P12

        江苏首芯半导体科技有限公司目前设计完成了首款拥有自主知识产权的12inchPECVD（Plasma Enhanced CVD）设备Dubhe-P12。在半导体芯片技术发展到90nm节点及以下的进程中，等离子体增强化学气相沉积设备扮演了重要的角色，由于等离子体的作用，化学反应温度明显降低，膜质，均匀度，颗粒度都可以很好的控制。此次Dubhe-P12 PECVD产品的设计完成，标志着江苏首芯半导体公司正式进入半导体薄膜沉积设备供应商的行列，可以为半导体芯片制造商提供性能优异的PECVD设备。

01 首席技术官李继刚博士表示

      “Dubhe-P12 PECVD机台的设计完成标志着首芯切入国内12英寸及以下半导体薄膜沉积市场。国内12英寸及以下薄膜沉积设备占全球同类市场的30%以上，该设备将会帮助国内Fab厂解决产能，突破封锁，同时江苏首芯会结合不同客户的需求，对设备进行定制化，实现特殊工艺。”

02 产品简介 

        Dubhe-P12 PECVD设备可实现PE-TEOS oxide, PE-SiH4 oxide, PE-SiN等材质的薄膜沉积，这些膜层被广泛应用于28纳米及以上成熟制程工艺的逻辑芯片、DRAM，3D NAND、Micro-OLED等晶圆厂内的先进制造中。Dubhe-P12 PECVD设备拥有非常广泛的应用范围和前景。

03 公司简介

       首芯半导体成立于2023年，主营业务为半导体先进制程设备的研发、生产、销售与技术服务。主要产品涉及半导体及泛半导体领域薄膜沉积设备。

     集成电路    

       先进封装    

Micro-OLED    

光学镀膜