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亚常压气相沉积

12英寸SACVD设备

GFF (Gap-fill Film) 设备是 Afilm针对28nm及以下STI(shallow trench isolation) 浅沟槽隔离所研发的机台,针对氧化硅薄膜工艺可实现深宽比8:1的无缝填充,行业领先。
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